Abbrevation
GMM/GI/ITG-Fachtagung ZuE
City
München
Country
Germany
Deadline Paper
Start Date
End Date
Abstract

Heutige integrierte Systeme können hun&#8211;derte Millionen von Transistoren enthalten, bestehen aus digitalen und analogen Komponenten unterschiedlicher Technolo&#8211;gien und eröffnen völlig neue Anwen&#8211;dungsfelder&#046; Eingebettete Systeme, Ein&#8211;Chip&#8211;Systeme, Multiprozessoren und Netzwerke auf einem Chip gehen über die Steuerung von Geräten und Anlagen, Fahrzeugen und Verkehrssystemen weit hinaus und stellen häufig besonders hohe Anforderungen an die Zuverlässigkeit&#046; Dem steht gegenüber, dass bei weiter sinkenden Strukturgrößen in der Mikro&#8211;elektronik die gefertigten elementaren Komponenten wie Transistoren und Leitungen über einen sehr großen Parameterbereich variieren werden&#046; Mit Systemarchitekturen, die davon abhängen, dass sämtliche Komponenten fehlerfrei funktionieren, werden sich künftig keine wirtschaftlichen Ausbeuten erzielen las&#8211;sen&#046; Es besteht dringender Bedarf an innovati&#8211;ven Verfahren, um die Ausbeute und die Zuverlässigkeit von mikro&#8211; und nano&#8211;elek&#8211;tronischen Systemen durch Fehlertoleranz und integrierte Reparaturmechanismen zu gewährleisten und ihre Qualität durch ent&#8211;sprechende Entwurfs&#8211;, Verifikations&#8211; und Testverfahren sicher zu stellen&#046; Diese Ver&#8211;fahren müssen sowohl Fertigungsfehler und Parameterschwankungen als auch Störungen während des Betriebs kompensieren können&#046; <b>Keywords:</b> Entwurfsmethodik<br>• Robuster Entwurf<br>• Synthesis for Reliability and Yield<br>Eingebettete Systeme<br>• Systemzuverlässigkeit<br>• Verfügbarkeit<br>Analoge Schaltungen<br>• RF<br>• Störsicherheit<br>Verifikation digitaler Systeme<br>• Korrektheit<br>• Nachweis von Fehlertoleranz und Zuverlässigkeitseigenschaften<br>Beschreibungssprachen und Modellierung<br>• Modellierung von Fehlertoleranz und Zuverlässigkeit<br>Testmethoden und Diagnose<br>• Defekt&#8211; und Fehleranalyse<br>• Test, Diagnose und Fehlertoleranz<br>Layoutentwurf<br>• Design for Manufacturability and Yield<br>• Lithografiegerechter Entwurf<br>ZuE ZuD