Abbrevation
ZuE
City
Stuttgart
Country
Germany
Deadline Paper
Start Date
End Date
Abstract

<FONT face=Arial size=2> <P align=left>Heutige integrierte Systeme k�nnen hunderte Millionen von Transistoren enthalten, bestehen aus digitalen und analogen Komponenten unterschiedlicher Technologien und er�ffnen v�llig neue Anwen&#8211;dungsfelder&#046; Eingebettete Systeme, Ein&#8211;Chip&#8211;Systeme, Multiprozessoren und Netzwerke auf einem Chip gehen �ber die Steuerung von Ger�ten und Anlagen, Fahrzeugen und Verkehrssystemen weit hinaus und stellen h�ufig besonders hohe Anforderungen an die Zuverl�ssigkeit&#046; Dem steht gegen�ber, dass bei weiter sinkenden Strukturgr��en in der Mikroelektronik die gefertigten elementaren Komponenten wie Transistoren und Leitungen �ber einen sehr gro�en Parameterbereich variieren werden&#046; Mit Systemarchitekturen, die davon abh�ngen, dass s�mtliche Komponenten fehlerfrei funktionieren, werden sich k�nftig keine wirtschaftlichen Ausbeuten erzielen lassen&#046; Es besteht dringender Bedarf an innovati&#8211;ven Verfahren, um die Ausbeute und die Zuverl�ssigkeit von mikro&#8211; und nanoelektronischen Systemen durch Fehlertoleranz und integrierte Reparaturmechanismen zu gew�hrleisten und ihre Qualit�t durch ent&#8211;sprechende Entwurfs&#8211;, Verifikations&#8211; und Testverfahren sicher zu stellen&#046; Diese Verfahren m�ssen sowohl Fertigungsfehler und Parameterschwankungen als auch St�rungen w�hrend des Betriebs kompensieren k�nnen&#046; <B>Schl�sselw�rter:</B> Entwurfsmethodik<BR>� Robuster Entwurf<BR>� Synthesis for Reliability and Yield<BR>Eingebettete Systeme<BR>� Systemzuverl�ssigkeit<BR>� Verf�gbarkeit<BR>Analoge Schaltungen<BR>� RF<BR>� St�rsicherheit<BR>Verifikation digitaler Systeme<BR>� Korrektheit<BR>� Nachweis von Fehlertoleranz und Zuverl�ssigkeitseigenschaften<BR>Beschreibungssprachen und Modellierung<BR>� Modellierung von Fehlertoleranz und Zuverl�ssigkeit<BR>Testmethoden und Diagnose<BR>� Defekt&#8211; und Fehleranalyse<BR>� Test, Diagnose und Fehlertoleranz<BR>Layoutentwurf<BR>� Design for Manufacturability and Yield<BR>� Lithografiegerechter Entwurf<BR>ZuE ZuD</P></FONT>